平板状氧化铝粉 平面抛光粉

平板状氧化铝粉 平面抛光粉

平板状氧化铝抛光粉是以工业氧化铝粉为原料，采用特殊生产工艺处理，生产出来的氧化铝抛光粉晶体形状呈六角平板状，因而称之为平板状氧化铝或片状氧化铝。

平板状氧化铝的氧化铝纯度99%以上，具有耐热，耐酸碱腐蚀，硬度高的特点。与传统磨料球形颗粒不同，平板状氧化铝的底面平整，研磨时颗粒贴合工件表面，产生滑动的研磨效果，避免了颗粒尖角对工件表面的划伤，另一方面，平板状氧化铝进行研磨时，研磨压力是均匀分布在颗粒表面，颗粒不易破碎，耐磨性能提高，从而提高了研磨效率和表面光洁度。

对于半导体材料如半导体硅片，平板状氧化铝的应用，可以减少磨削时间，大幅提高研磨效率，减少磨片机的损耗，节省人工和磨削成本，提高磨削合格率。品质接近国外品牌。

显像管玻壳磨削工效提高3-5倍；

合格品率提高10-15%，半导体硅片合格品率达到99%以上；

研磨消耗量比普通氧化铝抛光粉减少40-40%；

化学成分：

Al2O3

≥99.0%

SiO2

＜0.2

Fe2O3

＜0.1

Na2O

＜1

物理性能：

化学成分

α-Al2O3

颜色

白色

比重

≥3.9g/cm3

莫氏硬度

9.0

生产规格：

型号

D3(um)

D50（um）

D94（um）

HXTA40

39-44.6

27.7-31.7

18-20

HXTA35

35.4-39.8

23.8-27.2

15-17

HXTA30

28.1-32.3

19.2-22.3

13.4-15.6

HXTA25

24.4-28.2

16.1-18.7

9.6-11.2

HXTA20

20.9-24.1

13.1-15.3

8.2-9.8

HXTA15

14.8-17.2

9.4-11

5.8-6.8

HXTA12

11.8-13.8

7.6-8.8

4.5-5.3

HXTA09

8.9-10.5

5.9-6.9

3.3-3.9

HXTA05

6.6-7.8

4.3-5.1

2.55-3.05

HXTA03

4.8-5.6

2.8-3.4

1.5-2.1

产品应用范围：

1）电子行业 ： 半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体（砷化镓、磷化铟）的研磨抛光。
2）玻璃行业 ： 水晶，石英玻璃，显象管玻壳屏，光学玻璃，液晶显示器（LCD）玻璃基板，压电石英晶体的研磨加工。
3）涂附行业 ： 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。
4）金属和陶瓷加工业：精密陶瓷材料，烧结陶瓷原料，高温涂料等

包装：10公斤/塑料袋，20公斤/箱